粉體行業(yè)在線展覽
濺射設備 SME-200J
面議
萬德思諾
濺射設備 SME-200J
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產(chǎn)品圖片:
產(chǎn)品型號:
SME-200J
產(chǎn)品介紹:
1. 200mm×200㎜ Substrate(Transfer tray available)
2. Thin Wafer Auto transfer
3. Mask Sputtering available
4. Max. 2Process Chamber
溶液成長法單晶生長設備(TSSG法)
中型高速研磨設備 STC-610
快速高溫退火設備RTA RSA-06
全自動晶片減薄機SGM-9100
桌上型精密切割機MPC-200e
MIST-CVD氧化物薄膜沉積設備 M150A
C2W低溫熱壓鍵合設備 SAFP
高還原性低溫熱壓對準鍵合設備 MAFP
高還原性低溫熱壓鍵合設備 FATB
碳膜濺射設備 CS-200
碳膜去除設備 NE-550EX
激活退火設備 Ailesic-2000
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037