粉體行業在線展覽
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科研級磁控濺射設備—MS-300
直接聯系
合肥致真精密設備有限公司
安徽
面議
致真精密
科研級磁控濺射設備—MS-300
850
MS-300磁控濺射設備具有超高真空、單原子層沉積精度的特點，可以靈活選擇陰極向上或向下濺射。設備標配3個2英寸超高真空陰極。滿足實驗室中科學研究的需求，維護簡單，運行穩定。
觀察窗擋板
傾斜式高溫樣品臺
蒸發源
圓形互聯設備（外置機械臂、內置機械臂）
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超高真空管道傳輸設備
晶圓真空傳輸平臺—VTM
量產型磁控濺射設備—MSI-200
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自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
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Gasboard-2060
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等離子化學氣相沉積系統-PECVD
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