粉體行業在線展覽
全自動晶圓開槽/全切設備
面議
江蘇元夫
全自動晶圓開槽/全切設備
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設備特點
適合用于Low-k、氮化鋁(AlN)、氧化鋁陶瓷等材料的激光開槽
適合用于硅、砷化鎵(GaAs)等材料,厚度200μm以下薄晶圓無崩邊高品質全切
8/12英寸兼容,支持納秒/皮秒
雙路多beam并行加工
實現10-90μm開槽寬度連續可調
可加工20μm以內超窄切割道
整機精度:<±2μm
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等離子化學氣相沉積系統-PECVD
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統-詳情15345079037